電源工程師面試筆試指南

更新時間:2024-06-06 16:43:32 申請書 我要投稿

 

  電源工程師面試筆試指南

  參加過IC公司、電源公司的招聘,大多是“筆試+面試”的模式。

  華為電源面試,是我參加過的最正式和流程最多的面試,沒有之一。我認(rèn)為有機(jī)會,多參加這樣的面試,你會學(xué)到更多。

  本帖分享下我的華為電源面試經(jīng)歷,和大家交流,同時也希望能給即將畢業(yè)的或者新人做個參考。

  帖中將包括兩部分內(nèi)容:

  1、 華為電源面試過程分享

  2、 面(筆)試題分享

  (有華為的面試題、IC公司招AE的筆試題、電源公司招工程師的筆試題,題目不是很難,但我覺得都很好,各位看看對幾個。)

  下面開始

  第一部分:華為電源面試過程

  參加華為電源的招聘,比較偶然,那時候剛好到我們學(xué)校來招聘,而我原來在外面實習(xí),因為畢業(yè)論文要回校處理,就這么碰上了。

  華為電源校招時沒有筆試題,主要是以下幾個流程,我畫了張圖。個別的由于時間安排關(guān)系,順序會有調(diào)整。

  面試過程中給人一種壓力感,從網(wǎng)申開始,每一關(guān)都可能刷人。這面試有點(diǎn)像游戲中的打怪升級。

  最近看論壇多了很多畢業(yè)設(shè)計相關(guān)的帖子,原來又到一年畢業(yè)時,感嘆時間的飛快! 回想起自己當(dāng)年鄰近畢業(yè)的那段,除了忙于畢業(yè)設(shè)計,印象最深的就是找工作---參加校園招聘的日子。

  參加過IC公司、電源公司的招聘,大多是“筆試+面試”的模式。

  華為電源面試,是我參加過的最正式和流程最多的面試,沒有之一。我認(rèn)為有機(jī)會,多參加這樣的面試,你會學(xué)到更多。

  本帖分享下我的華為電源面試經(jīng)歷,和大家交流,同時也希望能給即將畢業(yè)的或者新人做個參考。

  下面包括兩部分內(nèi)容:

  1、 華為電源面試過程分享

  2、 面(筆)試題分享

  (有華為的面試題、IC公司招AE的筆試題、電源公司招工程師的筆試題,題目出的都蠻好,各位看看能否拿多少分。)

  開關(guān)電源工程師面試題--你能打多少分?

  共25題1---20題每題3分21---25題每題8分(答案見文章末尾處)

  1 , 一般情況下,同功率的'開關(guān)電源與線性電源相比, _____ 。

  A, 體積大,效率高

  B,體積小,效率低

  C, 體積不變,效率低

  D, 體積小,效率高

  2 ,大功率開關(guān)電源常用變換拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)形式是 _____ 。

  A, 反激式

  B, 正激式

  C, 自激式

  D, 他激式

  3,一般來說,提高開關(guān)電源的頻率,則電源_____。

  A,同體積時,增大功率

  B,功率減小,體積也減小

  C,功率增大,體積也增大

  D,效率提高,體積增大

  4,肖特基管和快恢復(fù)管常作為開關(guān)電源的____。

  A,輸入整流管

  B,輸出整流管

  C,電壓瞬變抑制管

  D,信號檢波管

  5,肖特基管與快恢復(fù)管相比,____。

  A,耐壓高

  B,反向恢復(fù)時間長

  C,正向壓降大

  D,耐壓低,正向壓降小

  6,GTR、SCR、GTO、TRIAC、MOSFET、IGBT中,那些是開關(guān)電源中變壓器常用的驅(qū)動元件?____。

  A,GTO和GTRB,TRIAC和IGBT

  C,MOSFET和IGBT

  D,SCR和MOSFET

  7,開關(guān)電源變壓器的損耗主要包括:____。

  A,磁滯損耗、銅阻損耗、渦流損耗

  B,磁滯損耗、銅阻損耗、介電損耗

  C,銅阻損耗、渦流損耗、介電損耗

  D,磁滯損耗、渦流損耗、介電損耗

  幾個開關(guān)電源工程師基礎(chǔ)筆試題

  1、普通二極管和電力電子用的二極管在結(jié)構(gòu)上有什么區(qū)別?提示:psn結(jié)構(gòu),s層的作用是什么?可以從雜質(zhì)摻雜濃度來分析。

  2、在現(xiàn)代開關(guān)器件中,經(jīng)常可以看到punch through技術(shù)的應(yīng)用。請介紹一下這種技術(shù)的原理和它的優(yōu)點(diǎn)(相比起沒有使用此技術(shù)的器件)。

  3、IGBT有“電導(dǎo)調(diào)制”的特點(diǎn),應(yīng)此igbt在大電流,較低頻率的應(yīng)用場合較MOSFET更有優(yōu)勢。何謂電導(dǎo)調(diào)制?

  4、thyristor和gto結(jié)構(gòu)上大同小異,但后者卻能夠?qū)崿F(xiàn)主動關(guān)斷。請介紹一下生產(chǎn)工藝上的差異。

  5、在大電流應(yīng)用場合,有時需要多管并聯(lián)。現(xiàn)在可供選擇的器件有igbt和mosfet。哪些可以用于并聯(lián),哪些不可以?原因是什么?

  6、在常用的dcdc converter中,如buck converter 或boost converter,二極管的反相恢復(fù)時間對能量損耗的影響很大。為改善損耗,請給出兩種方法。提示:新器件及拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)。

  答案往下(僅供參考而已)

  1答:通常為了增加二極管的耐壓,理論上可以增厚pn結(jié),并且降低雜質(zhì)濃度,但是缺點(diǎn)是正相導(dǎo)通損耗變大。

  通過加一層低雜質(zhì)的s層,性能得到改觀:正相導(dǎo)通的時候s層完全導(dǎo)通,近似于短路,直接pn連接,所以壓降小;反相接電壓的時候,由于s層的雜質(zhì)濃度低,電導(dǎo)低,或者說此s層能夠承受的最大電場E較大,所以s層能夠承受較大電壓而不被擊穿。

  2答:在開關(guān)器件中,用于提高耐壓的s層往往并沒有得到充分的利用,因為s層的一端耐壓為Emax的時候,另外一段為0,也就是說,E在s層并不是均勻分布的,Umax~0.5(Emax+Emin)——注意,器件耐壓只取決于s層中E對于l長度的積分。punch through就是在s層與pn結(jié)直接再加一層高雜質(zhì)摻雜的薄層,使得此層中電場由Emax變化到Emin=0,而真正的s層中處處場強(qiáng)都接近于Emax。

  理論上,通過punch through技術(shù),s層的寬度可以減少50%——在耐壓不變的前提下。實際中由于s層必須有一定的電導(dǎo),寬度會略大于50%。

 

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